紫外臭氧清洗機(jī)是一種快速干法表面清洗工具.其原理是利用紫外光子對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化作用，以達(dá)到清洗粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠_(tái)物)的目的。是清除硅、砷化鎵、石英、藍(lán)寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機(jī)污染物的安全、*的方法。
除清洗外，該清洗機(jī)還可用于表面改質(zhì)，如通過紫外處理后,涂層與表面的粘附力可大大增加,并可用于生物芯片制作過程中PDMS鍵合于表面改質(zhì)，如通過紫外處理后，涂層與表面的粘附力可大大增加，并可用于生物芯片制作過程中PDMS鍵合等。
紫外臭氧清洗機(jī)有哪些優(yōu)點(diǎn)：
1、被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體(CO2、CO、H2O等)從表面消散,隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。
2、表面潔凈度高，且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。
3、光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象.
4、光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位(如孔穴、微細(xì)溝槽等)具有有效而*的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位,發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的*性。
